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常用的拋光漿拋光方法及工作原理

作者: 振鴻興 編輯: 振鴻興 來(lái)源: 振鴻興 發(fā)布日期: 2022.10.06
信息摘要:
拋光漿簡(jiǎn)單介紹幾種常見(jiàn)的拋光方法及原理

        機(jī)械拋光是靠切削或使材料表面發(fā)生塑性變形而去掉工件表面凸出部得到平滑面的拋光方法,一般以手工操作為主,表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。拋光漿在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。利用該技術(shù)可達(dá)到Ra0.008 μm的表面粗糙度,是各種拋光方法中表面粗糙度最好的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。機(jī)械拋光是模具拋光的主要方法。
        化學(xué)拋光是拋光漿材料在化學(xué)介質(zhì)中讓表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從改善拋光產(chǎn)品表面。該方法可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件,效率高。化學(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為Ra10 μm。

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